Echipament computer to plate VLF pentru placi termale, cu cap expunere cu tehnologie GLV™ (Grating Light Valve™). Poate expune pana la 31 placi pe ora 1448 mm x 1143 mm (versiunea Z), formatul maxim fiind 1470 mm x 1165 mm.
DetaliiEchipament computer to plate VLF pentru placi termale, cu cap expunere cu tehnologie GLV™ (Grating Light Valve™). Poate expune pana la 41 placi pe ora 1448 mm x 1143 mm (versiunea Z), formatul maxim fiind 1750 mm x 1400 mm.
DetaliiEchipament computer to plate VLF pentru placi termale, cu cap expunere cu tehnologie GLV™ (Grating Light Valve™). Poate expune pana la 35 placi pe ora 2032 mm x 1270 mm (versiunea ZX), formatul maxim fiind 2100 mm x 1600 mm.
DetaliiEchipament computer to plate VLF pentru placi termale, cu cap expunere cu tehnologie GLV™ (Grating Light Valve™). Poate expune pana la 22 placi pe ora 2280 mm x 1276 mm (versiunea SX), formatul maxim fiind 2280 mm x 1600 mm.
DetaliiEchipament computer to plate VLF pentru placi termale, cu cap expunere cu tehnologie GLV™ (Grating Light Valve™). Poate expune pana la 17 placi pe ora 2900 mm x 1350 mm (versiunea SX), formatul maxim fiind 2900 mm x 1350 mm.
DetaliiSeria de echipamente de developat FLH-Z de la Fujifilm a fost proiectata pentru a fi utilizata cu gama de placi termale Brillia “lo-chem” de la Fujifilm. Fiecare procesor din gama incorporeaza sistemul de control unic si inteligent bazat pe microprocesorul ZAC dezvoltat de Fujifilm care tinde spre obtinerea unei producții stabile si la o calitate excelenta a placilor offset, cu mentenanta si utilizare de chimicale reduse.
DetaliiPrentru a vizualiza această pagină este nevoie de un browser modern.